穿出臭氧層后，在強烈紫外線的作用下，氯氟烴迅速分解，產生氯原子，氯原子極為活潑，專門拆散臭氧分子，使臭氧層逐漸變薄，出現空洞臭氧層遭到破壞的原因,臭氧層是指大氣層的平流層中臭氧濃度相對較高的部分，其主要作用是吸收短波紫外線,,大氣臭氧層破壞的原因，科學家中間有多種見解,破壞臭氧層的因素是什么。
臭氧層是指大氣層的平流層中臭氧濃度相對較高的部分，其主要作用是吸收短波紫外線。大氣層的臭氧主要以紫外線打擊雙原子的氧氣，把它分為兩個原子，然后每個原子和沒有分裂的氧合并成臭氧。臭氧分子不穩定，紫外線照射之后又分為氧氣分子和氧原子，形成一個繼續的過程臭氧氧氣循環，如此產生臭氧層。自然界中的臭氧層大多分布在離地20—50千米的高空。臭氧層中的臭氧主要是紫外線制造。破壞原因：1.當氟氯碳化物漂浮在空氣中時，由于受到陽光中紫外線的影響，開始分解釋出氯原子出來。2.這些氯原子的活性極大，常喜歡與其它物質結合。因此當它遇到臭氧的時候，便開始產生化學變化！3.臭氧被迫分解成一個氧原子（O）及一個氧分子（O2），而氯原子就與氧原子相結合
您好！很高興回答您的問題?。?！臭氧層被破壞的主要原因是人類使用的化學材料如氟里昂等揮發到空氣作用的結果?？照{、電冰箱用的制冷劑氯氟烴其商品名叫氟里昂。氯氟烴在低層大氣中穩定，游蕩10年左右的時間進入同溫層，直至穿出臭氧層。穿出臭氧層后，在強烈紫外線的作用下，氯氟烴迅速分解，產生氯原子，氯原子極為活潑，專門拆散臭氧分子，使臭氧層逐漸變薄，出現空洞
大氣臭氧層破壞的原因，科學家中間有多種見解。但是大多數人認，人類過多地使用氯氟烴類化學物質是破壞臭氧層的主要原因。氯氟烴是一種人造化學物質，1930年由美國的杜邦公司投入生產。在第二次世界大戰后，尤其是進入60年以后，開始大量使用，主要用作氣溶膠、制冷劑、發泡劑、化工溶劑等
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